氮化硅用真空碳管燒結爐 控制加熱系統(tǒng)有可控硅調(diào)壓器+低壓高流大功率變壓器+測溫裝置,組成閉環(huán)控制系統(tǒng),溫度儀表采用程序儀表帶PID自動調(diào)節(jié)功能,帶自整定自我調(diào)整能力。穩(wěn)定可靠,控制精度高。設備整體配有操作模擬屏,控制系統(tǒng)的操作都集中在上面,直觀明了,操作簡單可靠??刂葡到y(tǒng)集中安放在爐架的一側(cè)箱體內(nèi),整結大方,維修方便,所有器件均采用施耐德,西門子等,保證使用安全??刂葡涔裆隙加邪踩N,安裝接線標準化制作。
氮化硅用真空碳管燒結爐 設備用途
本系列真空爐為周期作業(yè)式,采用爐蓋升降、石墨管為發(fā)熱元件,適用于金屬材料,無機非金屬材料,在真空或保護氣氛下進行燒結適用,也可用于光學材料的燒結提純樣品測試分析等適用。
主要技術參數(shù)
3.1 電源:三相 380V 50Hz
3.2 加熱功率:70Kw ±10%(兩相380v)
3.3 設計溫度:1800℃
3.4 額定溫度:0~1750℃
3.4 工作區(qū)尺寸:Φ300*300(D*H,mm)(內(nèi)可放置對應尺寸的坩堝)
3.5 控溫區(qū)數(shù):一區(qū)
3.6 控溫方式:鎢萊熱偶程序控溫
3.7 控溫精度:±1℃
3.8 冷態(tài)極限真空度:6.7*10-3Pa(空爐、冷態(tài)、烘烤除氣后)
3.9 充氣氣氛:惰性氣體
3.10 充氣壓力:≤0.05MPa
結構及功能說明:
設備采用立式上開蓋結構,設備整體設計操作方便,設備主要有爐蓋、爐體,爐架、真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、爐底升降系統(tǒng),控制系統(tǒng)等組成。
5.1 爐蓋
爐蓋采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層封頭結構,與法蘭組焊成一個整體。其中內(nèi)壁精密拋光,外壁拉絲處理。爐門上設有冷卻水進出口、壓力表,放氣閥等快接接口。
5.2 爐體
爐體采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層架構,與上、下法蘭組焊成筒形結構,上下法蘭平面上開設有燕尾型密封槽,采用O型硅橡膠密封圈密封。爐內(nèi)壁精密拋光,外壁拉絲處理。爐體側(cè)面設有冷卻水進出口、真空抽氣口、加熱電極接口,紅外測溫接口等。
5.3 爐底
爐底采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層平板結構,與法蘭組焊成一個整體。其中內(nèi)壁精密拋光,外壁拉絲處理。法蘭平面開設有燕尾型密封槽,采用O型硅橡膠密封圈密封。
5.4 爐架
爐架采用型材焊接作為骨架,并配合數(shù)控鈑金,組合成一個整體,作為整個設備的基礎。同時,一體式設計整齊美觀,操作方便。
5.5 加熱及隔熱系統(tǒng):
加熱采用高純石墨作發(fā)熱體,純度高,無揮發(fā),有效保證爐腔內(nèi)的清潔度。隔熱材料采用石墨成型纖維軟氈,保溫效果好,耐沖擊性好。整個隔熱屏采用金屬框架固定,便于安裝與維護。
溫度控制采用高溫熱電偶配合程序儀表閉環(huán)控制,帶多段程序,可以設置升溫、保溫、降溫程序,自動運行。同時,在隔熱屏外設置一支監(jiān)控熱電偶,監(jiān)控隔熱屏外溫度,提高設備的安全使用性能。
5.6真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)采用二級泵配置,由一臺2X-30旋片式機械泵配壓差閥、一臺KT-300擴散泵+真空閥閥、充氣閥、放氣閥、真空壓力表、真空測量規(guī)管等組成,真空管道與泵的聯(lián)接采用金屬波紋管減緩震動,真空度的測量由睿寶數(shù)顯真空計執(zhí)行。
5.7 充放氣系統(tǒng)
本設備配置一路充放氣系統(tǒng),由流量計、電磁閥、手閥、、接頭等組成,可對爐內(nèi)氣氛壓力進行控制。手閥可以根據(jù)實際情況,適當調(diào)整氣體流量。排出的氣體客戶可結合實際情況進行處理。
5.8 水冷裝置
水冷系統(tǒng)由進出水總管道、閥門及各支路組成。冷卻水由總進水總管進入后,經(jīng)過各支管送到爐門、爐體、爐底、水冷電極、真空泵、冷阱等這些需要冷卻水的地方,然后匯總到出水總管排出。總進水管路設有電接點壓力表,具有斷水聲光報警并切斷電源功能。各支路水管采用透明塑膠軟管,通過不銹鋼接頭聯(lián)接進出水總管道及設備各進出水口。每路冷卻水進水管都裝有手動閥門,可手動調(diào)節(jié)水流量大小。