一、桌面式 真空電弧爐 不占空間 移動方便產(chǎn)品簡介

微型電弧爐主要用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校及科研院所進(jìn)行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。本設(shè)備采用桌面式結(jié)構(gòu)，占地空間小。

二、桌面式 真空電弧爐 不占空間 移動方便產(chǎn)品特點(diǎn)

1·爐體全不銹鋼設(shè)計，外形美觀大方

2·采用立式側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)新穎

3 .配置大口徑觀察窗，可實時觀察爐內(nèi)的冶煉情況

4·冶煉溫度高，純氯保護(hù)熔煉溫度高3500度以上滿足稀貴金屬及超高溫金屬材料的冶煉

5·采用電弧熔煉專用的熔煉電源。功耗小

6·采用桌面式設(shè)計，易操作

7 配有操作模擬屏，控制數(shù)據(jù)直觀顯示，操作直觀簡潔

8.高真空設(shè)計，真空室小可快速抽真空真空度可達(dá)5×10E-4Pa及以上，氬氣消耗少

9.自帶冷水機(jī)，到貨即可使用。

10.采用超溫保護(hù)和加裝濾光玻璃保護(hù)眼睛

11.水冷銅電極可360度移動，操作靈活，同時水冷坩堝小巧可更換，可定制。

12.帶翻料裝置，克服物料單面熔化不勻的局面

13·整個設(shè)備小巧，可整體放置在手套箱內(nèi)

14·可選配吸鑄，鑄造不同尺寸的圓棒和片狀料，樣品尺寸：1,1.5 2,4,5,mm

15·吸鑄模具兩片式結(jié)構(gòu)拆卸方便

三·功能參數(shù)：

　　1·樣品熔煉量：5-20g;

2·熔煉電流：10-250A;

3·熔煉電壓：20V;

4·電源額定輸入功率：6.3 KVA;（電源可根據(jù)客戶熔煉需要需要配置更大容量電源

5·熔煉溫度：0-3500℃，滿足絕大多數(shù)實驗要求;

6·真空度：≦ 5pa ~ 6.7*10-3pa可選（冷態(tài)極限真空）

　　7·熔煉電極：電極水冷，自由移動，操作靈活;

　　8·熔煉坩堝：標(biāo)準(zhǔn)銅模中帶有五個12*φ25半球形工位；

另可根據(jù)客戶要定做，可選配吸鑄功能

　　9·整機(jī)尺寸：wxdxh(350x450x650)mm;

　　10·電源：220v/50/60HZ/兩相供電;(根據(jù)電源功率定）